5月13日，应中国科学院大连化学物理研究所陈庆安研究员的邀请，柏林工业大学Martin Oestreich教授来所访问，并作了题为“Wheland Intermediates in Catalysis”的报告。

Martin Oestreich教授介绍了近几年，其研究组取得的研究成果。报告中，Martin Oestreich教授主要介绍了协同Si-H键活化催化生成正离子的方法，包括详细的异Si-H键裂解机理分析，并利用该催化模式实现了亲电C-H键硅基化、硼基化和亚锡基化。此外，还讨论了Friedel-Crafts C-H型硅基化和硼基化的其他方法。报告结束后，Martin Oestreich教授与在场师生就报告内容进行了深入交流与探讨。